南京原子制造研究所
微纳加工与测试平台—开放服务简介
南京原子制造研究所微纳加工与测试平台——开放服务简介
一、 平台介绍
南京原子制造研究所微纳加工与测试平台现可承接小试研发、委托加工和技术咨询等专属定制服务。平台配备了先进电子束光刻系统、紫外光刻系统、电子束蒸镀仪、超快电镜、高频皮秒级任意波形发生器、低温探针台等先进设备，拥有一支经验丰富的专业技术支持团队，是进行科学研究和小试研发的理想平台。详细信息可参见平台网站：https://atommanufac.nju.edu.cn/wjgycspt.htm
二、核心设备
1.微纳加工设备
RAITHEBPG 5150 电子束光刻系统
| Ø加速电压：30、50、100 kV |
Ø加工精度：＜8 nm |
Ø写场大小：1 mm |
Ø场拼接精度：＜15 nm |
Ø套刻精度：＜5 nm |
Ø衬底尺寸：6英寸及以下 |
Ø束流稳定性：<±0.5%/hr |
Ø束位置稳定性：<50 nm/hr |
RAITH eLINE Plus 电子束光刻系统
| Ø加工精度：＜4 nm@1kV, 1.6 nm@ 20kV |
Ø加工精度：＜8 nm |
Ø套刻精度：＜20 nm |
Ø衬底尺寸：4英寸及以下 |
Ø加速电压：1~30 kV |
Ø束位置稳定性：92.05 nm/h |
Ø束流稳定性：<±0.2%/hr |
紫外光刻系统
| Ø光刻分辨率：1 μm |
Ø衬底尺寸：≤6 英寸 |
Ø面内位移精度：<0.1 μm |
Ø衬底尺寸：4英寸及以下 |
Ø紫外光源：365 nm/405 nm |
Ø光照均匀性：>97% |
电子束蒸镀系统
| Ø真空度：5.0×10-8 |
Ø速率分辨率：0.1 Å /秒 |
Ø膜厚分辨率：1 Å |
Ø单批次镀膜种类：8种金属 |
Ø单批次晶圆个数：4片晶圆 |
Ø独立水冷系统 |
原子层沉积系统
| Ø基底加热温度：RT-400 ℃， ± 1 ℃ |
Ø样品台尺寸：4 inch |
Ø沉积模式：快速模式、高纵深比模式、专业掺杂模式 |
微波等离子体清洗机
| Ø腔体体积：15L |
Ø等离子源：微波，2.45GHz |
Ø微波功率：50~600W 连续 |
| Ø气体管路：4 路气体 |
HMDS增粘烘箱
| Ø温度范围：RT-250℃ |
Ø温度分辨率：0.1℃ |
Ø温度波动度：≤士0.5 |
| Ø真空度：≤133pa(1torr) |
| Ø搁板层数：2 层 |
| ØHMDS控制：可控制HMDS药液添加量 |
匀胶机
| Ø转速范围：20-10000RPM |
Ø转速精度及重复性：±0.1RPM |
Ø加速度可控范围：20-50000RPM/S |
| Ø单步时长：0-3000S |
| Ø时间分辨率：0.1S |
| Ø处理底物尺寸：碎片至8寸圆形底物 |
自动显影机
| Ø转速范围：20-5000rpm(空载) |
Ø加速度范围：20-10000rpm/s(空载) |
Ø单步时长：0-3000s |
| Ø时间分辨率：0.1s |
| Ø转速分辨率：0.1rpm |
Ø转速精度：±1rpm |
Ø显影液通道：5通道 |
程控烤胶机
| Ø加热面板尺寸：340*340mm方形 |
Ø控温范围：室温-300℃ |
Ø温度分辨率：0.1℃ |
| Ø控温精度：≤±0.2℃ |
| Ø温度均匀性：200℃以下≤+1%，200℃-300℃≤±1.5% |
Ø电动顶针调节高度：0-30mm |
Ø顶针高度分辨率：0.1mm |
| Ø升温速率：1-10 ℃/min |
平行缝焊机
| Ø速度：0 ～ 50 mm/s |
Ø压力：250 ～ 5000 g |
Ø可焊样品尺寸：3-200mm |
| Ø惰性气体（氩气）：4.2 Bar，80 Psi(5.8 Bar) |
多功能引线键合机
| Ø焊线种类：金线(15~75 μm)、铂金线(18~25 μm)、银线(18~50 μm)、铝线(18~100 μm) |
Ø腔深范围：球焊/楔焊最大12 /21 mm |
Ø劈刀长度：球焊/楔焊16/19，25mm |
Ø线轴尺寸：1/2英寸，2英寸 |
Ø键合力：1~250g |
Ø夹持台温度范围：室温~200°C |
Ø键合头X、Y、行程：18、15、15 mm |
Ø升降台Z行程：0~18mm |
Ø升降台X-Y范围：250mmx270mm |
| Ø额定功率：<500W |
2. 测试设备
低温探针台
 
| Ø系统温度：10 K ~ 873 K |
Ø控温稳定性：±0.05 K |
Ø最高真空度：4.5 × 10 −3 Pa |
Ø探针臂：4个直流式探针、2个射频或2个光纤探针 |
Ø探针移动精度：2 µm |
任意波形发生器
| Ø最大采样率：128/256 Gsa/s |
Ø带宽：50/55 GHZ @3db |
Ødac分辨率：8位 Ø最大幅度：1.66Vpp |
Ø存储器深度：512/1024kSa通道 |
Ø随即抖动：75fs |
Ø上升/下降时间：5ps |
Ø最大SFDR：-48dBc（直流至20GHz） |
示波器
| Ø带宽：10—30 GHz |
Ø最高灵敏度和最大带宽时噪声：< 0.3 mV（rms） |
Ø采样率：128 GSa/s Ø通道数：40 |
Ø最大带宽下的可检测符码率：66 Gbaud |
Ø垂直灵敏度：40mV-8V满量程 |
Ø垂直灵敏度（可缩放）：1 mV/格至 1 V/格 |
Ø硬件采集/加速系统：10位ADC 相位噪声测量 |
Fs-Pro半导体参数测试仪
| Ø直流测试：量程±200 V/1A，精度30 fA，30 uV |
Ø脉冲测试：量程±200 V/3A，输出功率480 W，精度5 pA，30 uV，脉冲宽度50 μs |
Ø瞬态测试：任意波形输出，采样率1.8 MS/s，步进时间10 us |
Ø电容测试：量程±20 V/1A，带宽10 Hz-1 0kHz，测量范围20 fF~1 mF |
Ø1/f噪声测试：带宽0.1 Hz-100 KHz，1e-28A2⁄Hz 本底噪声，200V Bias，8s/bias测试速度 |
三维矢量无液氦超导磁体系统（9T）
| Ø最大磁场：9 T |
Ø磁场均匀度：10mm球形内0.1% |
Ø扫场时间：小于30分钟（0-9T） |
Ø样品腔直径：50mm |
Ø扫场时间：小于30分钟（0-9T） |
| ØVTI变温范围：1.8 K-375 K |
| Ø装样方式：Top loading |
| Ø温度范围：1.8K-375K |
| Ø控温稳定性：±5 mK @10K；±10 mK @100K；±50 mK @ 300K |
三维矢量无液氦超导磁体系统（5T）
| Ø磁场强度：Z轴（垂直方向）≥9 T，X、Y轴（水平方向）≥2 T |
Ø磁场均匀度（10mm DSV）：垂直方向（Z向）≤0.1%水平方向（X和Y向）的分别≤1% |
Ø系统降温时间（＜4K）：＜60小时 |
Ø样品腔直径：50 mm |
ØZ轴励磁时间（0-9T）：＜30mins |
ØX轴/Y轴励磁时间：＜40mins |
Ø温度范围：1.8K-375K |
Ø控温稳定性：±5 mK @10K；±10 mK @100K；±50 mK @ 300K |
500 kHz / 5 MHz 锁相放大器
| Ø频率范围：DC - 500 kHz 或 5 MHz |
Ø精确测量电流和差分电压 |
Ø快速测量，低底噪 |
Ø多个可配置的辅助输入和输出端口 |
ØLabOne®工具集，示波器，参数扫描仪，频谱分析仪等 |
亚FA程控源表
| Ø噪声：0.4 fA p-p (4-16A) |
Ø电压测量的输入阻抗：>1016Ω |
Ø读取速率：达2000读数/s |
Ø分辨率：6位半 |
Ø量程：100 nA |
| Ø响应时间：百微妙至5ms |
2450数字源表
| Ø电压量程：20mV-200V |
Ø电流量程：10nA-1A |
Ø基本准确度：0.012% |
Ø宽带噪声：2mV (典型值)rms |
Ø扫描类型：线性，对数，双线性，双对数，定制源存储器 |
| Ø读数缓存：>250.000>3000读数/秒 |
3.表征设备
RAITH eLINE Plus 电子束光刻系统
| Ø束斑尺寸（分辨率）：＜1.6 nm |
Ø探测器：ET、SE、BSE |
Ø衬底尺寸：4英寸及以下 |
Ø加速电：1~30KV |
变温原位超快电镜
| 分辨率：静态模式 1.5 nm/15 kV/常温、1.0 nm/30 kV/常温、10 nm/30 kV/1400 ℃ |
超快模式 10 nm |
Ø探测器：SE、BSE |
Ø时间分辨率：100 ps |
| Ø探测器：SE、BSE |
光学显微镜
| Ø物镜：2X、10X、20X、50X、100X |
Ø目镜：20、22、25 mm Ø入射光：明场、暗场、微分干涉对比、荧光、定性偏振 |
Ø透射光：明场、暗场、相差、微分干涉、定性偏振 |
Ø载物台：手动XY载物台（76 x 50mm） |
三、技术咨询与预约
南京原子制造研究所微加工与测试平台现可承接小试研发、委托加工和技术咨询等专属定制服务。平台具备先进电子束光刻、紫外光刻、电子束蒸镀、超快电镜、高频（ps级）探针台等加工、检测与测试设备，以及专业的技术团队，可根据需求，提供6英寸及以下的单步、短工艺和长流程的试验、加工和测试定制服务。
咨询与预约请联系李老师。
电话15029996984（微信同号）
邮箱：liyuannju@163.com
