本工作室建立了微信群促进同学们之间的交流学习并有效讨论问题,可通过添加编辑微信进群。1.编辑微信:1)FEtunan(微信号)2)186006489282.工作室提供:二维材料生长及器件制作;科研绘图技巧;二维相关报告或会议推送;二维读博导师推荐、课题组招聘需求等欢迎大家投递中文的工作宣传稿及广告,具体联系微信:FEtunan(微信号)南京理工大学陈哲生教授,燕山大学程迎春教授等人发表题为 “Giant Photovoltaic Effect and Self-Powered Photodetection in Lateral MoS2 Homojunctions via Strong Interface Coupling”于ACS Nano上
本文利用二维绝缘体CrOCl与MoS₂之间的强界面电荷耦合,在单一MoS₂晶片内构建横向n⁺–n⁻同质结。通过微区角分辨光电子能谱(micro-ARPES)与第一性计算证实,MoS₂/CrOCl界面发生≈200 meV的刚性能带下移,电子从MoS₂向CrOCl转移,使MoS₂一侧由强n型转变为弱n型(n⁻),而未被覆盖区域保持强n型(n⁺)。基于该同质结的自驱动光电探测器在零偏压下实现0.87 V开路电压、0.98 A W⁻¹响应度与1.61×10¹² Jones比探测率,光伏转换效率达6.35 %,响应/恢复时间仅35/29 µs,性能在30天空气存储后保持>97 %,为二维同质结光电器件树立新标杆。
背景
二维范德华同质结因晶格完美匹配、界面无散射中心而被视为高性能光电器件理想平台。然而在同一种材料内实现横向载流子浓度梯度通常需借助分栅、化学掺杂、光掺杂或铁电局域极化等复杂工艺,且需外部刺激维持,难以兼顾稳定性与可扩展性。界面耦合(interface coupling)通过邻近效应调控载流子浓度与能带结构,为“无掺杂”构建横向同质结提供新思路。CrOCl是一种层状vdW磁绝缘体(带隙≈2.8 eV),近期被报道可抽取MoS₂电子并诱导n→p型转变,但其用于横向同质结光伏与自驱动光电探测尚未探索。
主要内容
本研究提出“界面电荷抽取”策略:将单层MoS₂一半区域直接裸露,另一半区域堆叠CrOCl绝缘体,形成横向n⁺–n⁻同质结。DFT计算表明CrOCl导带底比MoS₂低0.77 eV,形成II型能带排列;差分电荷密度显示界面S→Cl电子转移,与micro-ARPES实测≈200 meV能带下移一致。该内建电势在零偏压下即可高效分离光生载流子,赋予器件巨大光伏效应与自驱动探测能力。器件制备采用干法转移:先在SiO₂/Si上依次堆叠BN、CrOCl与MoS₂,形成MoS₂/CrOCl/BN区域;另一半MoS₂直接落在SiO₂上定义为n⁺区。电子束曝光定义3 µm沟道,Cr/Au(3 nm/50 nm)非对称电极跨越两区。
实验细节概括
单层MoS₂与4.4 nm CrOCl、9 nm BN分别通过机械剥离获得,干法转移使用PC/PDMS印章:先在印章上拾取MoS₂,再对准下半部分与CrOCl/BN堆叠,形成横向n⁺–n⁻结构;上半部分MoS₂直接落在SiO₂/Si衬底。整个堆叠在180 °C轻压下释放,氯仿去除PC胶。微区ARPES在意大利Elettra光源Spectromicroscopy束线完成,光子能量74 eV,光斑600 nm,能量分辨率45 meV,样品在UHV中350 °C退火10 h以清洁表面。器件电极由电子束曝光写出,Cr/Au蒸发后剥离形成源-漏间距3 µm、宽度10 µm的非对称电极。
创新点
首次利用vdW绝缘体CrOCl与MoS₂的界面电荷转移,在同一MoS₂晶片内构建横向n⁺–n⁻同质结,无需化学掺杂、栅极或铁电层,工艺简单且空气稳定。
通过micro-ARPES直接观测到≈200 meV能带下移,与DFT电荷差分结果一致,为界面耦合调控载流子浓度提供定量实验证据。
同质结在零偏压下实现0.87 V开路电压与6.35 %光伏效率,均为TMD同质结报道最高值;自驱动探测响应度近1 A W⁻¹,比探测率>10¹² Jones,兼具高速(µs级)与长寿命(>30天)。
提出“绝缘体诱导内建电势”概念,避免异质结晶格失配与界面缺陷,可拓展至其它TMD/vdW绝缘体系,为二维同质结光电器件提供通用平台。
演示单像素扫描成像,空间分辨率≈2 µm,验证材料均匀性与器件可集成性,为后续阵列化与片上光谱仪奠定基础。
结论
本工作利用CrOCl/MoS₂强界面耦合,在单一MoS₂中构建横向n⁺–n⁻同质结,实现巨大内建电势与高效光生载流子分离。器件在零偏压下同时输出0.87 V光伏电压与1 A W⁻¹自驱动光响应,效率、速度与稳定性均居TMD同质结前列。该策略无需掺杂、光刻或铁电层,兼容大面积干法转移,为二维同质结光伏、自驱动探测及多功能光电子芯片提供了一条可扩展、空气稳定的通用路线。
图1. 横向MoS2同质结示意图及MoS2/CrOCl界面耦合计算结果。(a)横向MoS2同质结示意图。(b)MoS2/CrOCl异质结的能带结构计算结果。(c)MoS2/CrOCl异质结理论结构模型侧视图(上)与电荷密度差分图(下),其中电荷积累与耗尽分别以红色和蓝色表示。图2. 原始MoS2和MoS2/CrOCl异质结的能带结构。(a)光学图像及对应的SPEM图谱,其中单层MoS2、少层CrOCl和BN区域分别用红色、黑色和黄色虚线标出,比例尺对应5μm。(b,c)三维ARPES图谱在(b)原始MoS2(E-EF=-2.15eV)和(c)MoS2/CrOCl异质结(E-EF=-1.95eV)处的等能面切图。(d,e)沿Γ-K方向的(d)原始MoS2和(e)MoS2/CrOCl能带色散。(f)从原始MoS2和MoS2/CrOCl的Γ点提取的EDCs谱。(g,h)沿Γ-M方向的(g)原始MoS2和(h)MoS2/CrOCl能带色散。(i)从原始MoS2和MoS2/CrOCl的M点提取的EDCs谱。图3. 基于横向MoS2同质结的FET性能。(a)基于MoS2的n+-n+、n--n-和n+-n- FET的示意图。(b)制备的FET器件的光学图像。(c)不同栅极电压下n+-n+ MoS2 FET的Ids-Vds曲线。(d)不同栅极电压下n--n- MoS2 FET的Ids-Vds曲线。(e)不同栅极电压下n+-n- MoS2 FET的Ids-Vds曲线。(f)Vds=1V时测量的FET转移特性曲线。(g)接触前MoS2和CrOCl的能带图。(h)原始MoS2和堆叠在CrOCl上的MoS2能带图。(i)横向n+-n- MoS2同质结的能带图。图4. 532 nm光照下横向n+-n- MoS2同质结的光电表征。(a)自供电操作下的光电流映射。(b)不同光照功率密度下测量的Ids-Vds曲线。(c)Voc和Isc随光照功率密度的变化关系。(d)不同光照功率密度下器件输出功率随Vds的变化。(e)填充因子(FF)和功率转换效率(PCE)随光照功率密度的变化。(f)177 mW/cm2光照功率密度下器件的光伏性能。(g)PCE和Voc与已报道的2D光伏器件40-51的对比。(h)响应度和探测率随光照功率密度的变化。(i)基于TMD异质结构的其他光电探测器在探测率和响应度方面的对比。https://doi.org/10.1021/acsnano.5c18507
